Повышенный генетический риск шизофрении ассоциирован с истончением сетчатки
Шизофрения — тяжелое психическое расстройство, отдельные проявления которого могут развиваться задолго до появления клинических симптомов. Группа под руководством исследователей из Университета Цюриха проанализировала геномные данные 35 тысяч человек с различными уровнями генетического риска этой болезни и показала, что у людей с повышенной предрасположенностью к шизофрении истончаются внутренние слои сетчатки. Эти изменения связаны с нейровоспалительными путями и могут служить ранним маркером уязвимости к шизофрении.

Шизофрения — хроническое заболевание, характеризующееся нарушениями восприятия, мышления и когнитивных функций. Помимо психиатрических проявлений, расстройство существенно влияет на соматическое здоровье: продолжительность жизни пациентов сокращается на 15–20 лет по сравнению с общей популяцией.
В последние годы все больше внимания уделяется поиску ранних маркеров заболевания, и одним из них может стать толщина сетчатки. В предыдущих исследованиях у пациентов с шизофренией отмечалось истончение сетчатки, особенно ее внутренних слоев. Однако было неясно, отражают ли эти изменения последствия болезни и ее лечения или являются результатом врожденной генетической предрасположенности.
Авторы работы, опубликованной в Nature Mental Health, поставили задачу проверить, наблюдаются ли аналогичные структурные изменения у людей без психиатрического диагноза, но с высоким генетическим риском шизофрении. В анализ включили 34 939 человек британского и ирландского происхождения без диагнозов шизофренического спектра, не принимавших антипсихотические препараты и не имевших офтальмологических заболеваний.
Генетическую предрасположенность к шизофрении оценивали с помощью полигенного индекса риска, который учитывает совокупный эффект множества генетических вариантов. Состояние сетчатки анализировали методом оптической когерентной томографии (ОКТ), уделяя особое внимание макулярной области и ее структурным слоям.
Результаты выявили отрицательную связь между средней толщиной макулы в микрометрах и полигенным индексом риска шизофрении. Коэффициент регрессии b составил –0,17, то есть на каждое стандартное отклонение увеличения полигенного индекса средняя толщина макулы уменьшалась на 0,17 мкм. Наиболее выраженные изменения наблюдались в ганглиозном и внутреннем синаптическом слое, где плотность нейронов максимальна.
Отдельно исследователи проанализировали путь-специфичные полигенные риски — они отражают вклад генов, связанных с определенными биологическими путями, в процессы истончения сетчатки. Оценивались группы генов, участвующие в регуляции дофамина, микроциркуляции, воспалительных и нейровоспалительных реакциях. Наибольшую ассоциацию с истончением сетчатки показали гены нейровоспалительного ответа.
Чтобы понять, может ли воспаление быть промежуточным звеном между генетическими рисками шизофрении и изменениями в сетчатке, авторы применили модель медиации, которая стремится объяснить наблюдаемую связь между зависимой и независимой переменной, включая промежуточное звено — переменную-посредника. В качестве возможного посредника рассматривался уровень С-реактивного белка (СРБ) — маркера системного воспаления. Оказалось, что у людей с высоким риском развития нейровоспалительных процессов уровень СРБ был повышен, а более высокий СРБ, в свою очередь, был связан с истончением ганглиозного слоя сетчатки.
Таким образом, хронические воспалительные процессы, с которыми ассоциированы определенные генетические варианты, могут влиять на структуру сетчатки еще до появления симптомов шизофрении. Это усиливает интерес к сетчатке как к неинвазивному и доступному маркеру ранних изменений в мозге при психических расстройствах, что может быть полезно для предотвращения серьезных нарушений и разработки эффективной терапии.
Система комплемента в мозге — потенциальная мишень для терапии шизофрении